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水处理设备-硅材料冲洗用高纯水设备/高纯水设备
型号: JR10000
操作压力: 0.3(Mpa)
水电阻率: 5-18兆
报价: 面议
最小起订: 1
库存: 100
有效期至: 长期有效
发布时间: 2020-03-05 14:32
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详细信息

供应水处理设备-硅材料冲洗用高纯水设备 超纯水设备

 

 

 

 

 本公司专业致力于太阳能光伏新材料切削液,线切割加收液,硅化硅,硅片切割液,拉晶等)生产用高纯水设备,去离子水设备的研究及开发,集设计制造,安装于一体的专业化公司,同时,本公司还提供光学材料清洗用水设备,电子陶瓷业用纯水,磁性材料用水设备,有色金属,贵重金属冶炼用水,纳米级新材料用水,航空新材料生产用,ITO导电玻璃制造用水,电子级高纯水/超纯水制取设备/去离子水设备等。联系:。

 

 

单晶硅、多晶硅、太阳能电池用水设备

典型工艺流程:
● 预处理系统-反渗透系统-粗混床-精混床-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
● 预处理-反渗透-
EDI装置-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)
● 预处理-一级反渗透-二级反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM) (新工艺)
● 预处理-反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥5MΩ.CM)(新工艺)
● 预处理系统-反渗透系统-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
● 预处理系统-反渗透系统-粗混合床-精密过滤器-用水对象 (≥5MΩ.CM)(传统工艺)

 

水质标准:

 
    国家电子级纯水标准

   显像管、液晶显示器用纯水水质(经验数据)

    集成电路用纯水水质

    美国SEMI标准

 

设备特点:
    为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在工艺设计上,取达到国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统(EDI电除盐系统)等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性

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